Acoperirea SiC este un strat subțire pe susceptor prin procesul de depunere chimică în vapori (CVD). Materialul cu carbură de siliciu oferă o serie de avantaje față de siliciu, inclusiv de 10 ori puterea câmpului electric de defalcare, de 3 ori banda interzisă, care oferă materialului rezistență la temperatură ridicată și chimică, rezistență excelentă la uzură, precum și conductivitate termică.
Semicorex oferă servicii personalizate, vă ajută să inovezi cu componente care durează mai mult, reduc timpii de ciclu și îmbunătățesc randamentele.
Acoperirea SiC are mai multe avantaje unice
Rezistență la temperaturi ridicate: susceptorul acoperit cu CVD SiC poate rezista la temperaturi ridicate de până la 1600°C fără a suferi o degradare termică semnificativă.
Rezistență chimică: Acoperirea cu carbură de siliciu oferă o rezistență excelentă la o gamă largă de substanțe chimice, inclusiv acizi, alcalii și solvenți organici.
Rezistență la uzură: Acoperirea SiC oferă materialului o rezistență excelentă la uzură, făcându-l potrivit pentru aplicații care implică uzură mare.
Conductivitate termică: Acoperirea CVD SiC oferă materialului o conductivitate termică ridicată, făcându-l potrivit pentru utilizare în aplicații la temperatură înaltă care necesită un transfer eficient de căldură.
Rezistență și rigiditate ridicate: Susceptorul acoperit cu carbură de siliciu oferă materialului rezistență și rigiditate ridicate, făcându-l potrivit pentru aplicații care necesită rezistență mecanică ridicată.
Acoperirea SiC este utilizată în diverse aplicații
Producția de LED-uri: Susceptorul acoperit cu CVD SiC este utilizat în producția de diferite tipuri de LED-uri, inclusiv LED-uri albastre și verzi, LED-uri UV și LED-uri UV adânci, datorită conductivității sale termice ridicate și rezistenței chimice.
Comunicație mobilă: susceptorul acoperit cu CVD SiC este o parte crucială a HEMT pentru a finaliza procesul epitaxial GaN-on-SiC.
Procesarea semiconductoarelor: susceptorul acoperit cu CVD SiC este utilizat în industria semiconductoarelor pentru diverse aplicații, inclusiv procesarea plachetelor și creșterea epitaxială.
Componente din grafit acoperite cu SiC
Fabricat din grafit de acoperire cu carbură de siliciu (SiC), acoperirea este aplicată printr-o metodă CVD pe grade specifice de grafit de înaltă densitate, astfel încât să poată funcționa în cuptorul de înaltă temperatură cu peste 3000 °C într-o atmosferă inertă, 2200 °C în vid. .
Proprietățile speciale și masa redusă a materialului permit viteze rapide de încălzire, distribuție uniformă a temperaturii și o precizie remarcabilă în control.
Datele materiale ale Semicorex SiC Coating
Proprietăți tipice |
Unități |
Valori |
Structura |
|
faza FCC β |
Orientare |
Fracție (%) |
111 preferat |
Densitate în vrac |
g/cm³ |
3.21 |
Duritate |
Duritatea Vickers |
2500 |
Capacitate termică |
J kg-1 K-1 |
640 |
Expansiune termică 100–600 °C (212–1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
Modulul tinerilor |
Gpa (îndoire 4 pt, 1300 ℃) |
430 |
Dimensiunea boabelor |
μm |
2~10 |
Temperatura de sublimare |
℃ |
2700 |
Forța felexurală |
MPa (RT în 4 puncte) |
415 |
Conductivitate termică |
(W/mK) |
300 |
Concluzie Susceptorul acoperit cu CVD SiC este un material compozit care combină proprietățile unui susceptor și ale carburii de siliciu. Acest material posedă proprietăți unice, inclusiv rezistență la temperaturi ridicate și chimice, rezistență excelentă la uzură, conductivitate termică ridicată și rezistență și rigiditate ridicate. Aceste proprietăți îl fac un material atractiv pentru diverse aplicații la temperaturi ridicate, inclusiv procesarea semiconductoarelor, procesarea chimică, tratamentul termic, fabricarea celulelor solare și fabricarea LED-urilor.
Semicorex SiC-acoperit Wafer Carrier este proiectat pentru a oferi o manipulare fiabilă a plachetelor în timpul proceselor de creștere epitaxială a semiconductoarelor, oferind rezistență la temperaturi ridicate și o conductivitate termică excelentă. Cu o tehnologie avansată a materialelor și un accent pe precizie, Semicorex oferă performanțe și durabilitate superioare, asigurând rezultate optime pentru cele mai solicitante aplicații de semiconductor.*
Citeşte mai multTrimite o anchetăSemicorex SiC Coated Graphite Waferholder este o componentă de înaltă performanță concepută pentru manipularea precisă a plachetelor în procesele de creștere a epitaxiei semiconductoare. Expertiza Semicorex în materiale și producție avansate asigură că produsele noastre oferă o fiabilitate, durabilitate și personalizare de neegalat pentru o producție optimă de semiconductori.*
Citeşte mai multTrimite o anchetăTava din carbură de siliciu Semicorex este construită pentru a rezista la condiții extreme, asigurând în același timp performanțe remarcabile. Joacă un rol crucial în procesul de gravare ICP, difuzia semiconductoarelor și procesul epitaxial MOCVD.
Citeşte mai multTrimite o anchetăSemicorex MOCVD Waferholder este o componentă indispensabilă pentru creșterea epitaxiei SiC, oferind un management termic superior, rezistență chimică și stabilitate dimensională. Alegând suportul pentru plachete Semicorex, îmbunătățiți performanța proceselor dumneavoastră MOCVD, conducând la produse de calitate superioară și o eficiență mai mare în operațiunile dumneavoastră de fabricare a semiconductoarelor. *
Citeşte mai multTrimite o anchetăComponenta Epitaxy Semicorex este un element crucial în producția de substraturi SiC de înaltă calitate pentru aplicații avansate de semiconductori, o alegere de încredere pentru sistemele de reactoare LPE. Selectând Semicorex Epitaxy Component, clienții pot avea încredere în investiția lor și își pot îmbunătăți capacitățile de producție pe piața competitivă a semiconductoarelor.*
Citeşte mai multTrimite o anchetăSusceptorul Semicorex MOCVD 3x2’’ dezvoltat de Semicorex reprezintă un apogeu al inovației și excelenței inginerești, special adaptat pentru a răspunde cerințelor complexe ale proceselor contemporane de fabricare a semiconductorilor.**
Citeşte mai multTrimite o anchetă