Susceptitori de placă acoperită cu sic

Susceptorii de placă acoperite cu semicorex SIC sunt concepute pentru a îndeplini cerințele de presare pentru fabricarea de semiconductori avansați, în special în sistemele de depunere a filmelor ultratine fără presiune. Proiectate cu precizie, oferă performanțe termice superioare, durabilitate chimică și stabilitate mecanică-esențiale pentru medii de generație următoare pentru procesarea filmelor subțiri.

În tehnicile de depunere care nu folosesc presiune, cum ar fi depunerea stratului atomic (ALD), depunerea de vapori chimici (CVD) și depunerea de vapori fizici (PVD) pentru filme foarte subțiri, cerințele majore sunt o distribuție uniformă a temperaturii și stabilitatea suprafeței. Unicitatea designului nostru susceptor constă în faptul că încorporează un substrat poros de înaltă puritate, care îi permite să funcționeze eficient în condiții de vid sau aproape vacuum, reducând astfel stresul termic și oferind un transfer uniform de energie pe suprafața plafonului.

Structura cu mai multe găuri este o inovație cheie: ajută la reducerea masei termice, promovează chiar și distribuția debitului de gaze și atenuează fluctuațiile de presiune care altfel ar putea compromite uniformitatea depunerii. Această structură contribuie, de asemenea, la rampa termică mai rapidă și la cicluri de recul, îmbunătățind debitul general și controlul procesului.

Oferim o serie de dimensiuni de susceptitori, geometrii și niveluri de porozitate pentru a se potrivi cu diverse proiectări ale sistemului de depunere și dimensiuni de wafer. Natura modulară a procesului nostru de fabricație permite personalizarea pentru a îndeplini cerințele termice, mecanice și chimice specifice ale procesului de film subțire al clientului.

Susceptorul de placi acoperit cu semicorex SIC este o soluție de înaltă performanță, adaptată provocărilor unice ale depunerii de filme ultratine fără presiune. Combinația sa de proiectare structurală poroasă și acoperire robustă SIC oferă un suport optim pentru procesele de fabricație a semiconductorilor de înaltă precizie, permițând o calitate mai bună a filmului, randamente mai mari și costuri operaționale mai mici.