Puteți fi sigur că cumpărați ICP Etching Carrier din fabrica noastră și vă vom oferi cel mai bun serviciu post-vânzare și livrare la timp. Suceptorul de plachetă Semicorex este fabricat din grafit acoperit cu carbură de siliciu folosind procesul de depunere chimică în vapori (CVD). Acest material posedă proprietăți unice, inclusiv rezistență la temperaturi ridicate și chimice, rezistență excelentă la uzură, conductivitate termică ridicată și rezistență și rigiditate ridicate. Aceste proprietăți îl fac un material atractiv pentru diverse aplicații la temperatură înaltă, inclusiv sistemele de gravare cu plasmă cuplată inductiv (ICP).
Oferim servicii personalizate, vă ajutăm să inovezi cu componente care durează mai mult, reduc timpii de ciclu și îmbunătățesc randamentele.
Semicorex SiC ICP Etching Disk nu este doar componente; este un factor esențial al producției de semiconductori de ultimă oră, deoarece industria semiconductoarelor își continuă căutarea neobosită de miniaturizare și performanță, cererea de materiale avansate precum SiC nu va face decât să se intensifice. Acesta asigură precizia, fiabilitatea și performanța necesare pentru a alimenta lumea noastră bazată pe tehnologie. Noi, cei de la Semicorex, suntem dedicați fabricării și furnizării de disc de gravare SiC ICP de înaltă performanță, care îmbină calitatea cu eficiența costurilor.**
Citeşte mai multTrimite o anchetăSemicorex SiC Susceptor pentru ICP Etch este fabricat cu accent pe menținerea unor standarde înalte de calitate și consistență. Procesele robuste de fabricație utilizate pentru a crea acești susceptori asigură că fiecare lot îndeplinește criterii de performanță stricte, oferind rezultate fiabile și consistente în gravarea semiconductorilor. În plus, Semicorex este echipat să ofere programe de livrare rapide, ceea ce este crucial pentru a ține pasul cu cerințele de redresare rapidă ale industriei semiconductoarelor, asigurându-se că termenele de producție sunt îndeplinite fără a compromite calitatea. Noi, la Semicorex, suntem dedicați producției și furnizării de performanțe înalte. Susceptor SiC pentru ICP Etch care îmbină calitatea cu rentabilitatea.**
Citeşte mai multTrimite o anchetăComponenta ICP acoperită cu SiC de la Semicorex este proiectată special pentru procesele de manipulare a plachetelor la temperatură înaltă, cum ar fi epitaxie și MOCVD. Cu o acoperire fină de cristal SiC, suporturile noastre oferă rezistență superioară la căldură, uniformitate termică și rezistență chimică durabilă.
Citeşte mai multTrimite o anchetăCând vine vorba de procese de manipulare a plachetelor, cum ar fi epitaxie și MOCVD, acoperirea SiC la temperatură înaltă de la Semicorex pentru camere de gravare cu plasmă este alegerea de top. Purtătorii noștri oferă rezistență superioară la căldură, uniformitate termică chiar și rezistență chimică durabilă datorită acoperirii noastre fine de cristal SiC.
Citeşte mai multTrimite o anchetăTava de gravare cu plasmă ICP de la Semicorex este concepută special pentru procesele de manipulare a plachetelor la temperatură înaltă, cum ar fi epitaxie și MOCVD. Cu o rezistență stabilă la oxidare la temperatură înaltă de până la 1600°C, suporturile noastre oferă profile termice uniforme, modele de flux laminar de gaz și previn contaminarea sau difuzia impurităților.
Citeşte mai multTrimite o anchetăPurtătorul acoperit cu SiC de la Semicorex pentru sistemul de gravare cu plasmă ICP este o soluție fiabilă și rentabilă pentru procesele de manipulare a plachetelor la temperatură înaltă, cum ar fi epitaxie și MOCVD. Purtătorii noștri au o acoperire fină de cristal SiC care oferă rezistență superioară la căldură, uniformitate termică și rezistență chimică durabilă.
Citeşte mai multTrimite o anchetă