Susceptor SiC pentru ICP Etch

Semicorex SiC Susceptor pentru ICP Etch este fabricat cu accent pe menținerea unor standarde înalte de calitate și consistență. Procesele robuste de fabricație utilizate pentru a crea acești susceptori asigură că fiecare lot îndeplinește criterii de performanță stricte, oferind rezultate fiabile și consistente în gravarea semiconductorilor. În plus, Semicorex este echipat să ofere programe de livrare rapide, ceea ce este crucial pentru a ține pasul cu cerințele de redresare rapidă ale industriei semiconductoarelor, asigurându-se că termenele de producție sunt îndeplinite fără a compromite calitatea. Noi, la Semicorex, suntem dedicați producției și furnizării de performanțe înalte. Susceptor SiC pentru ICP Etch care îmbină calitatea cu rentabilitatea.**

Trimite o anchetă

Descriere produs

Semicorex SiC Susceptor pentru ICP Etch este renumit pentru excelenta conductivitate termică, care permite o distribuție rapidă și uniformă a căldurii pe suprafață. Această caracteristică este crucială pentru menținerea unei temperaturi consistente în timpul procesului de gravare, asigurând o mare precizie în transferul modelului. În plus, coeficientul scăzut de dilatare termică al SiC minimizează modificările dimensionale la temperaturi diferite, menținând astfel integritatea structurală și susținând îndepărtarea precisă și uniformă a materialului.

Una dintre proprietățile remarcabile ale SiC Susceptor pentru ICP Etch este rezistența lor la impactul cu plasmă. Această rezistență asigură că susceptorul nu se degradează sau nu se erodează în condițiile dure ale bombardamentului cu plasmă, ceea ce este comun în aceste procese de gravare. Această durabilitate sporește fiabilitatea procesului de gravare și contribuie la producerea de modele de gravare curate, bine definite, cu defectivitate minimă.

SiC Susceptor pentru ICP Etch este în mod inerent rezistent la coroziune de către acizi puternici și alcalii, care este o proprietate esențială pentru materialele utilizate în mediile de gravare ICP. Această rezistență chimică asigură că SiC Susceptor pentru ICP Etch își păstrează proprietățile fizice și mecanice în timp, chiar și atunci când sunt expuse la reactivi chimici agresivi. Această durabilitate reduce nevoia de înlocuire și întreținere frecventă, reducând astfel costurile operaționale și crescând timpul de funcționare al instalațiilor de fabricare a semiconductoarelor.

Semicorex SiC Susceptor pentru ICP Etch poate fi proiectat cu precizie pentru a îndeplini cerințele dimensionale specifice, care este un factor critic în fabricarea semiconductoarelor, unde personalizarea este adesea necesară pentru a se adapta la diferite dimensiuni ale plachetelor și specificații de procesare. Această adaptabilitate permite o mai bună integrare cu echipamentele și liniile de proces existente, optimizând eficiența și eficacitatea generală a procesului de gravare.