Despre noi

Semicorex Advanced Material Technology Co., Ltd este un furnizor lider de înaltă calitate de produse de acoperire SiC cu depunere chimică de vapori (CVD) de top în China. Ne angajăm în cercetarea și dezvoltarea materialelor semiconductoare inovatoare, în special a tehnologiei de acoperire SiC și aplicarea acesteia în industria semiconductoarelor. Oferim o gamă largă de produse de înaltă calitate, cum ar fiSusceptori de grafit acoperiți cu SiC, acoperit cu carbură de siliciu, susceptori profundi de epitaxie UV, Încălzitoare de substrat CVD, Purtători de napolitane CVD SiC, bărci cu napolitană, precum șicomponente semiconductoareșiproduse ceramice cu carbură de siliciu.

Filmul subțire de SiC utilizat în epitaxie cu cip LED și substraturi de siliciu monocristal are o fază cubică cu aceeași structură de rețea cristalină ca și diamantul și este a doua după diamant ca duritate. SiC este un material semiconductor cu bandă largă recunoscută pe scară largă, cu un potențial imens de aplicare în industria electronică a semiconductoarelor și are proprietăți fizice și chimice excelente, cum ar fi conductivitate termică ridicată, coeficient de dilatare termică scăzut și rezistență la temperatură ridicată și rezistență la coroziune.

În producția de dispozitive electronice, napolitanele trebuie să treacă prin mai multe etape, inclusiv epitaxia cu siliciu, în care napolitanele sunt transportate pe susceptori de grafit. Calitatea și proprietățile susceptorilor joacă un rol crucial în calitatea stratului epitaxial al plachetei. Baza de grafit este una dintre componentele de bază ale echipamentului MOCVD și este purtătorul și încălzitorul substratului. Parametrii săi de performanță stabili termic, cum ar fi uniformitatea termică, joacă un rol decisiv în calitatea creșterii materialului epitaxial și determină direct uniformitatea și puritatea medie.

La Semicorex, utilizăm CVD pentru a produce filme dense β-SiC pe grafit izostatic de înaltă rezistență, care are o puritate mai mare în comparație cu materialele SiC sinterizate. Produsele noastre, cum ar fi susceptorii de grafit acoperiți cu SiC, conferă bazei de grafit proprietăți speciale, făcând suprafața bazei de grafit compactă, netedă și neporoasă, rezistentă la căldură superioară, uniformitate termică, rezistentă la coroziune și la oxidare.

Tehnologia de acoperire SiC a câștigat o utilizare pe scară largă, în special în creșterea purtătorilor epitaxiali LED și a epitaxiei cu un singur cristal de Si. Odată cu creșterea rapidă a industriei semiconductoarelor, cererea pentru tehnologie și produse de acoperire SiC a crescut semnificativ. Produsele noastre de acoperire SiC au o gamă largă de aplicații în industria aerospațială, fotovoltaică, energie nucleară, feroviar de mare viteză, auto și alte industrii.

Aplicarea produsului

Epitaxie LED IC

Epitaxie cu siliciu monocristal

Purtători de napolitane RTP/TRA

Gravare ICP/PSS

Gravare cu plasmă

epitaxie SiC

Epitaxie de siliciu monocristalin

Epitaxie GaN pe bază de siliciu

Epitaxie UV profundă

gravarea semiconductoarelor

industria fotovoltaica

Sistem CVD epitaxial SiC

Echipament de creștere a filmului epitaxial SiC

Reactorul MOCVD

Sistem MOCVD

Echipamente CVD

sisteme PECVD

sisteme LPE

sisteme Aixtron

Sisteme Nuflare

Sisteme TEL CVD

Sisteme Vecco

sisteme TSI