GaN-on-Si Epi Wafer Chuck

Semicorex GaN-on-Si Epi Wafer Chuck este parte integrantă a producției de semiconductori, permițând suport stabil și fiabil în timpul proceselor critice, cum ar fi depunerea, gravarea și litografia. GaN-on-Si Epi Wafer Chuck asigură o disipare eficientă a căldurii, menținând o distribuție uniformă a temperaturii pe placă pentru a preveni gradienții termici care ar putea cauza defecte. GaN-on-Si Epi Wafer Chuck este disponibil în diferite dimensiuni și configurații pentru a se adapta diferitelor dimensiuni ale plachetelor și cerințelor de procesare, oferind flexibilitate pentru diverse nevoi de fabricare a semiconductoarelor.

Aplicatii:

Creștere epitaxială: GaN-on-Si Epi Wafer Chuck oferă o platformă stabilă pentru creșterea straturilor GaN de înaltă calitate pe substraturi de siliciu, GaN-on-Si Epi Wafer Chuck este esențială pentru dispozitivele electronice și optoelectronice de înaltă performanță.

Gravare și depunere: facilitează îndepărtarea sau depunerea uniformă a materialului, cheie pentru atingerea proprietăților structurale și electrice dorite ale dispozitivelor.

GaN-on-Si Epi Wafer Chuck este un instrument indispensabil pentru producătorii de semiconductori care își propun să producă dispozitive de ultimă generație pe bază de GaN, oferind performanțe de neegalat în ceea ce privește precizia, stabilitatea și durabilitatea.