Tavă de napolitană SiC

Tava pentru napolitane Semicorex SiC, care funcționează ca un element cheie în aparatul MOCVD, ține și gestionează termic substraturile monocristaline. Caracteristicile sale excepționale de performanță, inclusiv stabilitatea termică și uniformitatea superioare, precum și inhibarea coroziunii și așa mai departe, sunt cruciale pentru creșterea de înaltă calitate a materialelor epitaxiale. Aceste atribute asigură uniformitatea și puritatea consecvente în straturile de film subțire.

Îmbunătățită cu o acoperire de SiC, tava de napolitană de SiC îmbunătățește semnificativ conductivitatea termică, facilitând o distribuție rapidă și uniformă a căldurii, vitală pentru creșterea epitaxială uniformă. Capacitatea tăvii de napolitană SiC de a absorbi și radia eficient căldură menține o temperatură stabilă și constantă, esențială pentru depunerea precisă a filmelor subțiri. Această distribuție uniformă a temperaturii este critică pentru producerea de straturi epitaxiale de înaltă calitate, care sunt esențiale pentru performanța dispozitivelor semiconductoare avansate.

Performanța fiabilă și longevitatea tăvii SiC Wafer Tray reduc frecvența înlocuirilor, minimizând timpul de nefuncționare și costurile de întreținere. Construcția sa robustă și capacitățile operaționale superioare îmbunătățesc eficiența procesului, crescând astfel productivitatea și rentabilitatea în fabricarea semiconductorilor.

În plus, tava pentru napolitană Semicorex SiC prezintă o rezistență excelentă la oxidare și coroziune la temperaturi ridicate, asigurând în continuare durabilitatea și fiabilitatea acesteia. Rezistența sa termică ridicată, marcată de un punct de topire semnificativ, îi permite să reziste la condițiile termice riguroase inerente proceselor de fabricare a semiconductoarelor.