Element de încălzire SiC Filament de încălzire Tije SiC

Tijele din SiC cu filament pentru încălzirea elementului de încălzire SiC reprezintă vârful tehnologiei de încălzire, concepute meticulos pentru a satisface cerințele exigente ale procesului de fabricare a semiconductorilor. Acest element de încălzire inovator combină proprietățile termice excepționale ale grafitului cu atributele de înaltă performanță ale acoperirii cu carbură de siliciu (SiC), rezultând un instrument indispensabil pentru fabricarea precisă și eficientă a semiconductoarelor.

Aplicatii:

Tijele din SiC cu filament pentru element de încălzire Semicorex SiC își găsesc o utilitate indispensabilă în diferite procese critice de fabricare a semiconductorilor:

Depunerea chimică în vapori (CVD): Permite depunerea controlată a peliculelor subțiri pe substraturi, vitală pentru crearea de modele complexe de circuite și structuri de dispozitiv.

Recoacerea și difuzia: Facilitarea tratamentului termic controlat pentru a îmbunătăți proprietățile materialului și a crea profile de dopaj precise în substraturile semiconductoare.

Oxidare și gravare: Sprijinirea proceselor de oxidare și gravare controlate esențiale pentru izolarea dispozitivului, formarea interconexiunii și modificarea suprafeței.

Creșterea cristalelor: Oferă mediul termic ideal pentru creșterea epitaxială, rezultând formarea de straturi cristaline de înaltă calitate, cu orientări definite ale cristalelor.