SiC Fin

Semicorex SiC Fin este o componentă de înaltă performanță realizată dinceramică cu carbură de siliciuă cu carbură de siliciu, este proiectat pentru utilizare în sisteme de epitaxie și gravare semiconductoare. Proiectat ca o piesă circulară, în formă de disc, cu diferite găuri de diferite diametre, SiC Fin este o componentă critică pentru materialele de tipare a fluxului și gestionarea gazelor sau efluenților lichizi în timpul prelucrării la temperatură înaltă sau cu plasmă. Datorită performanței sale structurale, rezistenței excelente la coroziune și stabilității termice ridicate, SiC Fin este esențială pentru producția avansată de semiconductori.

SiC Fin este fabricat din înaltă puritatecarbură de siliciupulbere folosind procese avansate de formare și sinterizare. Astfel, are rezistență mecanică și stabilitate excelente în condiții termice și chimice ridicate. Proprietățile fizice unice ale carburii de siliciu, cum ar fi duritatea ridicată, dilatarea termică scăzută și inerția chimică excelentă, permit ca Fin-ul să fie o componentă structurală în medii cu plasmă la temperatură înaltă sau gaze reactive, care sunt caracteristice proceselor EPI și de gravare.

Structura discului componentei, completată cu găuri forate cu precizie, permite fluxuri controlate de gaze și lichide în camerele de proces. În funcție de aplicație, găurile pot fi configurate pentru a gestiona fluxul de subproduse sau drenajul pentru un mediu curat și stabil în timpul procesului de napolitană. Într-o aplicație de epitaxie, de exemplu, SiC Fin poate ajuta la direcționarea gazelor de proces sau a fluxurilor de condens, sporind astfel uniformitatea filmului și minimizând contaminarea cu particule. În instrumentele de gravare, este eficient pentru îndepărtarea sigură și eficientă a speciilor reactive și a subproduselor lichide care protejează componentele vulnerabile ale camerei de degradarea chimică.

Fiecare Semicorex SiC Fin este fabricat cu toleranțe foarte strânse și lustruit pentru a oferi o planeitate excelentă a suprafeței și precizie dimensională. Această precizie de fabricație asigură performanță fiabilă atunci când este integrată în sisteme complicate și păstrează funcționalitatea consecventă pentru perioade lungi de funcționare. SiC Fin este compatibil cu toate modelele de reactoare și poate fi fabricat la comandă în diametru, grosime și model de găuri pentru a satisface nevoile clienților. Semicorex poate oferi modele personalizate pentru a optimiza performanța pentru variabilele procesului, cum ar fi debitul, geometria camerei și temperatura.

Pe lângă funcționalitatea sa versatilă, SiC Fin are o durabilitate și longevitate excepționale în comparație cu alte materiale. Este foarte rezistent la oxidare, eroziunea cu plasmă și coroziunea chimică, ceea ce reduce frecvența de înlocuire a pieselor dumneavoastră și scade timpul de nefuncționare a sistemului. Mai mult, conductivitatea termică a carburii de siliciu permite capacitatea de disipare a căldurii pentru a gestiona gradienții termici din dispozitiv, evitând deformarea sau crăparea nedorită în timpul ciclării rapide a temperaturii.

Semicorex folosește avansatceramică cu carbură de siliciucapabilități de procesare și acoperire CVD pentru a oferi cea mai înaltă puritate și consistență a SiC Fin produs. Fiecare Fin SiC este, de asemenea, inspectat pentru densitate, uniformitate microstructurii și perfecțiunea suprafeței pentru a se asigura că îndeplinește cerințele exigente ale industriei semiconductoarelor. Acest lucru are ca rezultat o componentă care are integritate mecanică și robustețe pentru o funcționare stabilă, pe termen lung, în medii extreme.

Semicorex SiC Fin este rezultatul științei materialelor și tehnologiei de ultimă generație. Nu numai că produce fluxuri eficiente de evacuare și lichide, dar contribuie la curățenia și fiabilitatea întregului sistem de epitaxie și gravare. Combină rezistența mecanică, stabilitatea termică și longevitatea la coroziune pentru a oferi o experiență mai consistentă pentru aplicațiile de procesare a semiconductorilor.