Barcă de difuzie SiC

Cu proprietăți ale materialelor de înaltă calitate, Semicorex SiC Diffusion Boat reprezintă funcționalitate optimă într-un spectru larg de parametri operaționali: duritate, rezistență și rezistență termică și chimică etc. Această alegere a materialului este crucială pentru reducerea riscurilor de contaminare, protejarea napolitanelor și rezistența la condiții exigente prezente în procesele de fabricare a semiconductorilor. Noi, cei de la Semicorex, suntem dedicați producției și furnizării de barci de difuzie SiC de înaltă performanță, care îmbină calitatea cu eficiența costurilor.**

Trimite o anchetă

Descriere produs

Iată o privire detaliată asupra avantajelor SiC Diffusion Boat:

Stabilitate structurală și rezistență termică: Semicorex SiC Diffusion Boat oferă stabilitate termică excepțională și integritate dimensională la temperaturi ridicate, făcându-le extrem de avantajoase pentru utilizare în aplicații de procesare la temperatură înaltă și tratament termic.

Rezistență excelentă la coroziune: Barca de difuzie SiC demonstrează o rezistență remarcabilă la coroziune, asigurând performanțe prelungite în condiții chimice dure și de mediu.

Material de înaltă puritate: Barca de difuzie SiC este fabricată dintr-o matrice de înaltă puritate și film de carbură de siliciu, prevenind eficient introducerea de impurități și reducând contaminarea în procesul de fabricație. Această puritate ridicată contribuie în mod semnificativ la îmbunătățirea calității produsului.

Densitate scăzută: Barca de difuzie SiC posedă o densitate relativ scăzută în comparație cu multe alte materiale, făcându-le ușoare și ușor de gestionat în timpul manipulării și procesării.

Aplicație versatilă: Barca de difuzie SiC este potrivită pentru componentele portante critice din echipamentele fotovoltaice și semiconductoare, în special în procesele de manipulare a plachetelor.

Utilizare în cuptoare verticale cu semiconductor: Semicorex SiC Diffusion Boat este folosit în principal în cuptoare verticale cu semiconductor pentru procese de oxidare și recoacere la temperatură înaltă. Această aplicație evidențiază rolul lor crucial în facilitarea acestor proceduri specifice de fabricație a semiconductorilor.