Disc Wafer acoperit cu SiC

Discul Wafer acoperit cu Semicorex SiC reprezintă un avans important în tehnologia de fabricație a semiconductorilor, jucând un rol esențial în procesul complex de fabricare a semiconductorilor. Proiectat cu precizie meticuloasă, acest disc este fabricat din grafit superior acoperit cu SiC, oferind performanțe și durabilitate remarcabile pentru aplicațiile de epitaxie cu siliciu. Noi, cei de la Semicorex, suntem dedicați producției și furnizării de disc Wafer de înaltă performanță acoperit cu SiC, care îmbină calitatea cu eficiența costurilor.

Trimite o anchetă

Descriere produs

Fundația discului de napolitană acoperit cu Semicorex SiC constă din grafit de înaltă calitate, acoperit cu experiență cu depunere chimică în vapori (CVD) SiC. Această construcție avansată oferă o rezistență excepțională la șocuri termice și degradare chimică, prelungind semnificativ durata de viață a discului Wafer acoperit cu SiC și asigurând performanță fiabilă pe tot parcursul procesului de fabricare a semiconductorilor.

În special, discul Wafer acoperit cu SiC excelează în conductivitate termică, care este esențială pentru disiparea eficientă a căldurii în timpul producției de semiconductori. Această caracteristică minimizează gradienții termici pe suprafața plachetei, promovând distribuția uniformă a temperaturii, esențială pentru atingerea caracteristicilor semiconductoarelor dorite.

Acoperirea SiC oferă o protecție robustă împotriva coroziunii chimice și șocului termic, menținând integritatea discului Wafer acoperit cu SiC chiar și în medii dure de proces. Această durabilitate sporită are ca rezultat o durată de viață mai lungă și o perioadă de nefuncționare redusă, contribuind la creșterea productivității și la eficiența costurilor în instalațiile de fabricare a semiconductoarelor.

Mai mult, discul Wafer acoperit cu SiC poate fi adaptat pentru a satisface cerințele și preferințele specifice. Oferim opțiuni de personalizare, de la ajustări de dimensiune la variații ale grosimii stratului de acoperire, permițând flexibilitate de proiectare care optimizează performanța în diferite aplicații și parametri de proces.