Produse

View as  
 
Suport de gravare PSS acoperit cu SiC

Suport de gravare PSS acoperit cu SiC

Purtătorii de napolitane utilizați în creșterea epixială și procesarea de manipulare a napolitanelor trebuie să reziste la temperaturi ridicate și curățări chimice dure. Semicorex SiC Coated PSS Etching Carrier conceput special pentru aceste aplicații solicitante de echipamente de epitaxie. Produsele noastre au un avantaj de preț bun și acoperă multe dintre piețele europene și americane. Așteptăm cu nerăbdare să devenim partenerul dumneavoastră pe termen lung în China.

Citeşte mai multTrimite o anchetă
Susceptor cilindric acoperit cu SiC pentru creșterea epitaxială LPE

Susceptor cilindric acoperit cu SiC pentru creșterea epitaxială LPE

Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor pentru LPE Epitaxial Growth este un produs de înaltă performanță conceput pentru a oferi performanțe consistente și fiabile pe o perioadă lungă de timp. Profilul său termic uniform, modelul de curgere a gazului laminar și prevenirea contaminării îl fac o alegere ideală pentru creșterea straturilor epitaxiale de înaltă calitate pe așchii de napolitană. Personalizarea și rentabilitatea sa îl fac un produs extrem de competitiv pe piață.

Citeşte mai multTrimite o anchetă
Sistem Epi receptor de butoi

Sistem Epi receptor de butoi

Semicorex Barrel Susceptor Epi System este un produs de înaltă calitate care oferă aderență superioară a stratului, puritate ridicată și rezistență la oxidare la temperaturi înalte. Profilul său termic uniform, modelul de curgere a gazului laminar și prevenirea contaminării îl fac o alegere ideală pentru creșterea straturilor epixiale pe așchii de napolitană. Eficiența costurilor și personalizarea acestuia îl fac un produs extrem de competitiv pe piață.

Citeşte mai multTrimite o anchetă
Sistem de reactoare de epitaxie în fază lichidă (LPE).

Sistem de reactoare de epitaxie în fază lichidă (LPE).

Sistemul de reactoare Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) este un produs inovator care oferă performanțe termice excelente, profil termic uniform și aderență superioară a stratului de acoperire. Puritatea sa ridicată, rezistența la oxidare la temperaturi înalte și rezistența la coroziune îl fac o alegere ideală pentru utilizarea în industria semiconductoarelor. Opțiunile sale personalizabile și rentabilitatea fac din acesta un produs extrem de competitiv pe piață.

Citeşte mai multTrimite o anchetă
Depunere epitaxială CVD în reactor de butoi

Depunere epitaxială CVD în reactor de butoi

Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor este un produs extrem de durabil și de încredere pentru creșterea straturilor epixiale pe așchii de napolitană. Rezistența sa la oxidare la temperaturi ridicate și puritatea ridicată îl fac potrivit pentru utilizarea în industria semiconductoarelor. Profilul său termic uniform, modelul de flux de gaz laminar și prevenirea contaminării îl fac alegerea ideală pentru creșterea stratului epixial de înaltă calitate.

Citeşte mai multTrimite o anchetă
Depunere epitaxială de siliciu în reactor de butoi

Depunere epitaxială de siliciu în reactor de butoi

Dacă aveți nevoie de un susceptor de grafit de înaltă performanță pentru utilizare în aplicațiile de fabricare a semiconductoarelor, reactorul Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel este alegerea ideală. Acoperirea sa de SiC de înaltă puritate și conductivitatea termică excepțională oferă protecție superioară și proprietăți de distribuție a căldurii, făcându-l alegerea ideală pentru performanțe fiabile și consistente chiar și în cele mai dificile medii.

Citeşte mai multTrimite o anchetă
X
Folosim cookie-uri pentru a vă oferi o experiență de navigare mai bună, pentru a analiza traficul site-ului și pentru a personaliza conținutul. Prin utilizarea acestui site, sunteți de acord cu utilizarea cookie-urilor. Politica de confidențialitate
Respinge Accepta