Porous sic vid Buck

Chuck -ul de vid poros semicorex poros reprezintă o soluție de manipulare care vizează obținerea unei poziționări exacte și stabile a napolitane în toate etapele procesării semiconductorilor. Acest much de vid are o aderență excelentă pentru aplicațiile de manipulare a plafonului și de aliniere a substratului, sporind astfel atât fiabilitatea, cât și performanța. Opțiunile de material de bază - SUS430, aliaj de aluminiu 6061, ceramică de ceramică de alumină densă, granit și carbură de siliciu - se transformă în flexibilitatea utilizatorului de a alege materialul optim în funcție de cerințele individuale în ceea ce privește performanța termică, proprietățile mecanice sau greutatea.

O mai bună alegere a materialului: partea inferioară a mandrinei poroase de vid poate fi schimbată cu diferite materiale pentru a se potrivi cu diverse nevoi:

• Sus430: O opțiune ieftină care rezistă bine la rugină pentru utilizări comune.
• Aliaj de aluminiu 6061: oferă un amestec de forță, greutate ușoară și o mare funcție, ceea ce îl face bun pentru manipularea obișnuită a plafonului.
• Ceramică densă de alumină (99% AL2O3): oferă o stabilitate termică excelentă și o duritate ridicată, potrivită pentru aplicații de temperatură ridicată sau de precizie.
• Granit: Cunoscut pentru planeitatea și stabilitatea excepțională, granitul oferă o expansiune termică scăzută, ideală pentru aplicații care necesită o precizie ridicată.
• Ceramica din carbură de siliciu: cunoscută pentru conductivitatea termică ridicată, rezistența chimică și durabilitatea, sic este ideal pentru medii performante în care se întâlnesc condiții extreme.

Flatness cu precizie ridicată: mand -ul poros de vid asigură o planeitate superioară, cu precizie variază în funcție de materialul utilizat. Clasamentul materialului de la cea mai mare până la cea mai mică precizie de planeitate este:

Ceramica din granit și carbură de siliciu: Ambele materiale oferă o planeitate de înaltă precizie, asigurând stabilitatea plafonului chiar și în cele mai solicitante medii de procesare.

Alumina densă (99% AL2O3): puțin mai puțin planeitate în comparație cu granitul și sic, dar oferă totuși o precizie bună pentru aplicațiile generale cu semiconductor.

Aliaj de aluminiu 6061 și Sus430: furnizează o precizie de planeitate ușor mai mică, dar sunt încă extrem de fiabile pentru manipularea waferului în aplicații mai puțin solicitante.

Variații de greutate pentru nevoi specifice: mand -ul de vid poros SIC permite utilizatorilor să aleagă dintr -o varietate de opțiuni materiale pe baza cerințelor de greutate:

Aliaj de aluminiu 6061: cea mai ușoară alegere a materialului, oferind o manipulare și transport ușor.

Granit: un material de bază mai greu, care asigură o stabilitate ridicată și minimizează vibrațiile în timpul procesării.

Ceramica din carbură de siliciu: are o greutate moderată, oferind un echilibru de durabilitate și conductivitate termică.

Ceramică de alumină densă: cea mai grea opțiune, ideală pentru aplicații în care stabilitate și rezistență termică ridicată sunt prioritare.

Durabilitate și performanță ridicată: mand-ul de vid poros SIC este conceput pentru o performanță de lungă durată, capabilă să reziste la variații de temperatură extremă și uzura asociată cu procesarea semiconductorului. Varianta ceramică din carbură de siliciu este deosebit de benefică pentru mediile cu temperaturi ridicate și chimic agresiv, datorită rezistenței sale excepționale la expansiunea termică și coroziunea.

Soluții rentabile: cu mai multe opțiuni materiale, mand-ul de vid poros SIC oferă o soluție rentabilă care poate fi adaptată la diferite bugete și cerințe de aplicare. Pentru aplicații generale, aliajul de aluminiu și Sus430 sunt eficiente din punct de vedere al costurilor, oferind în același timp performanțe satisfăcătoare. Pentru medii mai solicitante, opțiunile ceramice de granit sau SIC oferă performanțe și durabilitate sporite.

Aplicații:

Chuck -ul de vid poros SIC este utilizat în principal în industria semiconductorilor pentru manipularea plafonului, inclusiv în procese precum:

• Wafer Dicing și Tăiere
• Fabricare fotovoltaică
• MOCVD și CVD Epitaxy Creștere
• Implantare ionică
• Procese de oxidare și difuzie

Chuckul poros de vid poros al lui Semicorex se remarcă pentru precizia, versatilitatea și durabilitatea sa. Indiferent dacă aveți nevoie de soluții ușoare pentru manipulare generală sau materiale avansate pentru procese semiconductoare de înaltă performanță, produsul nostru oferă o gamă largă de opțiuni pentru a răspunde nevoilor dvs. Fabricat cu standarde de cea mai înaltă calitate, mandaturile noastre de vid asigură o manipulare fiabilă și eficientă a wafer -ului pentru diverse aplicații, oferind rezultate consistente atât în ​​procese standard, cât și în procese specializate.

Pentru industriile în care stabilitatea waferului și manipularea precisă sunt cruciale, mand -ul de vid poros SIC oferă o soluție ideală. Cu selecția sa de materiale, o precizie ridicată și o durabilitate superioară, este alegerea perfectă pentru o gamă largă de procese semiconductoare.