- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Știri de companie
Procese cu plasmă în operațiuni CVD
Depunerea chimică în vapori (CVD) se referă la o tehnologie de proces în care mai mulți reactanți gazoși la presiuni parțiale variate suferă o reacție chimică în condiții specifice de temperatură și presiune. Substanța solidă rezultată se depune pe suprafața materialului substrat, obținând astfel fi......
Citeşte mai mult
Straturi și substraturi epitaxiale de siliciu în fabricarea semiconductoarelor
În electronica modernă, optoelectronica, microelectronica și domeniile tehnologiei informației, substraturile semiconductoare și tehnologiile epitaxiale sunt indispensabile. Acestea oferă o bază solidă pentru fabricarea dispozitivelor semiconductoare de înaltă performanță și fiabilitate ridicată. Pe......
Citeşte mai mult
Prima companie de industrializare a substratului de oxid de galiu de 6 inci
Recent, compania noastră a anunțat că a dezvoltat cu succes un monocristal de oxid de galiu de 6 inchi folosind metoda de turnare, devenind prima companie industrializată autohtonă care stăpânește tehnologia de pregătire a substratului monocristal de oxid de galiu de 6 inci.
Citeşte mai mult
Material de izolare a câmpului termic
Procesul de creștere a siliciului monocristalin are loc predominant într-un câmp termic, unde calitatea mediului termic are un impact semnificativ asupra calității cristalului și eficienței creșterii. Proiectarea câmpului termic joacă un rol esențial în modelarea gradienților de temperatură și a din......
Citeşte mai mult
