Straturile groase de carbură de siliciu (SiC) de înaltă puritate, care depășesc de obicei 1 mm, sunt componente critice în diverse aplicații de mare valoare, inclusiv fabricarea semiconductoarelor și tehnologiile aerospațiale. Acest articol analizează procesul de depunere chimică în vapori (CVD) pen......
Citeşte mai multDepunerea chimică în vapori (CVD) este o tehnică versatilă de depunere a filmului subțire utilizată pe scară largă în industria semiconductoarelor pentru fabricarea de pelicule subțiri conforme de înaltă calitate pe diferite substraturi. Acest proces implică reacții chimice ale precursorilor gazoși ......
Citeşte mai multAcest articol analizează utilizarea și traiectoria viitoare a bărcilor cu carbură de siliciu (SiC) în relație cu bărcile de cuarț în industria semiconductoarelor, concentrându-se în special pe aplicațiile acestora în fabricarea celulelor solare.
Citeşte mai multCreșterea plachetelor epitaxiale cu nitrură de galiu (GaN) este un proces complex, care utilizează adesea o metodă în două etape. Această metodă implică mai multe etape critice, inclusiv coacere la temperatură înaltă, creșterea stratului tampon, recristalizare și recoacere. Prin controlul meticulos ......
Citeşte mai multAtât plachetele epitaxiale, cât și cele difuze sunt materiale esențiale în fabricarea semiconductoarelor, dar diferă semnificativ în procesele lor de fabricație și în aplicațiile țintă. Acest articol analizează diferențele cheie dintre aceste tipuri de napolitane.
Citeşte mai multGravarea este un proces esențial în fabricarea semiconductorilor. Acest proces poate fi clasificat în două tipuri: gravare uscată și gravare umedă. Fiecare tehnică are propriile avantaje și limitări, ceea ce face esențială înțelegerea diferențelor dintre ele. Deci, cum alegi cea mai bună metodă de g......
Citeşte mai mult