Duș cu un singur cristal din silicon

Siliciu cu un singur cristal Semicorexcap de dușprezintă rezistență excepțională la coroziune, coeficient de expansiune scăzut și conductivitate termică excelentă. Adaptându-se robust la condițiile dure de temperatură ridicată, corozivitate ridicată și vid înalt în fabricarea semiconductoarelor, prezintă o toleranță excepțională la gazele de proces, cum ar fi gazele de gravare și depunere. Prin urmare, capul de duș cu siliciu monocristal este utilizat pe scară largă în procesele de curățare a semiconductoarelor, procesele de oxidare, procesele de depunere și procesele de gravare.

Semicorex folosește tehnici avansate de tratare a suprafeței pentru a se asigura că suprafața capului de duș din silicon monocristal prezintă atât planeitate cât și netezime extrem de ridicate. Între timp, bazându-se pe designul standardizat al structurii canalului și al traseului gazului, suprafața capului de duș cu siliciu monocristal este distribuită uniform cu mulți pori de același diametru (diametrul minim poate ajunge la 0,2 milimetri). Toleranța la diametrul porilor a capului de duș din silicon monocristal este controlată cu precizie la nivelul micrometrului, iar peretele interior al porului trebuie să fie neted și fără bavuri, asigurând acuratețea distribuției și uniformitatea gazului de proces din aspectele structurale și de proces.

Semicorex oferă servicii de personalizare expert pentru a satisface diferitele nevoi ale clienților. În funcție de diferitele nevoi ale clienților săi, poate personaliza soluții de aspect pentru a se potrivi dimensiunilor și formei camerelor lor de reacție. Designul optimizat permite napolitanelor să aibă un contact complet și consistent cu gazul de proces pe tot parcursul procesului de reacție, garantând că gazul este dispersat uniform în camera de reacție. Acest lucru în cele din urmă îmbunătățește eficiența producției și calitatea produsului.