Semicorex Silicon Carbide Graphite Substrate MOCVD Susceptor este alegerea supremă pentru producătorii de semiconductori care caută un suport de înaltă calitate care poate oferi performanțe și durabilitate superioare. Materialul său avansat asigură un profil termic uniform și un model de flux laminar de gaz, oferind napolitane de înaltă calitate.
Susceptorul nostru MOCVD de grafit cu carbură de siliciu este foarte pur, realizat prin depunere chimică de vapori CVD în condiții de clorinare la temperatură înaltă, asigurând uniformitatea și consistența produsului. De asemenea, este foarte rezistent la coroziune, cu o suprafață densă și particule fine, ceea ce îl face rezistent la acizi, alcali, sare și reactivi organici. Rezistența sa la oxidare la temperaturi înalte asigură stabilitate la temperaturi ridicate de până la 1600°C.
Contactați-ne astăzi pentru a afla mai multe despre susceptitorul nostru MOCVD cu substrat de grafit cu carbură de siliciu.
Parametrii substratului MOCVD de grafit de carbură de siliciu
Specificații principale ale acoperirii CVD-SIC |
||
Proprietăți SiC-CVD |
||
Structură cristalină |
faza FCC ² |
|
Densitate |
g/cm³ |
3.21 |
Duritate |
Duritatea Vickers |
2500 |
Marimea unui bob |
μm |
2~10 |
Puritatea chimică |
% |
99.99995 |
Capacitatea termică |
J·kg-1·K-1 |
640 |
Temperatura de sublimare |
℃ |
2700 |
Forța felexurală |
MPa (RT 4 puncte) |
415 |
Modulul Young |
Gpa (îndoire 4 pt, 1300â) |
430 |
Expansiune termică (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Conductivitate termică |
(W/mK) |
300 |
Caracteristici ale susceptorului de grafit acoperit cu SiC pentru MOCVD
- Evitați decojirea și asigurați acoperirea pe toată suprafața
Rezistență la oxidare la temperaturi ridicate: stabil la temperaturi ridicate de până la 1600°C
Puritate ridicată: realizat prin depunere chimică de vapori CVD în condiții de clorinare la temperatură ridicată.
Rezistență la coroziune: duritate mare, suprafață densă și particule fine.
Rezistență la coroziune: acid, alcali, sare și reactivi organici.
- Obțineți cel mai bun model de flux laminar de gaz
- Garantează uniformitatea profilului termic
- Preveniți orice contaminare sau difuzia impurităților