În calitate de producător profesional, am dori să vă oferim SiC Epitaxy. Și vă vom oferi cel mai bun serviciu post-vânzare și livrare la timp. Semicorex furnizează susceptor de grafit acoperit cu carbură de siliciu CVD, utilizat pentru susținerea napolitanelor. Construcția lor cu grafit acoperit cu carbură de siliciu (SiC) de înaltă puritate oferă rezistență superioară la căldură, uniformitate termică chiar pentru grosime și rezistență consistentă a stratului epi și rezistență chimică durabilă. Acoperirea cu cristale de SiC fin oferă o suprafață curată, netedă, critică pentru manipulare, deoarece napolitanele curate intră în contact cu susceptorul în multe puncte de pe întreaga lor zonă.
Componenta Epitaxy Semicorex este un element crucial în producția de substraturi SiC de înaltă calitate pentru aplicații avansate de semiconductori, o alegere de încredere pentru sistemele de reactoare LPE. Selectând Semicorex Epitaxy Component, clienții pot avea încredere în investiția lor și își pot îmbunătăți capacitățile de producție pe piața competitivă a semiconductoarelor.*
Citeşte mai multTrimite o anchetăCamera de reacție Semicorex LPE Halfmoon este indispensabilă pentru funcționarea eficientă și fiabilă a epitaxiei SiC, asigurând producerea de straturi epitaxiale de înaltă calitate, reducând în același timp costurile de întreținere și sporind eficiența operațională. **
Citeşte mai multTrimite o anchetăSemicorex 6'' Wafer Carrier pentru Aixtron G5 oferă o multitudine de avantaje pentru utilizarea în echipamentele Aixtron G5, în special în procesele de producție de semiconductori de înaltă precizie și temperatură înaltă.**
Citeşte mai multTrimite o anchetăSemicorex Epitaxy Wafer Carrier oferă o soluție extrem de fiabilă pentru aplicațiile Epitaxy. Materialele avansate și tehnologia de acoperire asigură că acești suporturi oferă performanțe remarcabile, reducând costurile operaționale și timpii de nefuncționare din cauza întreținerii sau înlocuirii.**
Citeşte mai multTrimite o anchetăSemicorex introduce susceptorul său de disc SiC, conceput pentru a crește performanța echipamentelor de epitaxie, depunere de vapori chimici metalo-organici (MOCVD) și procesare termică rapidă (RTP). Susceptorul de disc SiC, proiectat meticulos, oferă proprietăți care garantează performanțe superioare, durabilitate și eficiență în medii cu temperaturi ridicate și vid.**
Citeşte mai multTrimite o anchetăSemicorex SiC ALD Susceptor oferă numeroase avantaje în procesele ALD, inclusiv stabilitatea la temperatură ridicată, uniformitatea și calitatea filmului îmbunătățite, eficiența procesului îmbunătățită și durata de viață extinsă a susceptorului. Aceste beneficii fac din SiC ALD Susceptor un instrument valoros pentru obținerea de filme subțiri de înaltă performanță în diverse aplicații solicitante.**
Citeşte mai multTrimite o anchetă