Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor este un produs extrem de durabil și de încredere pentru creșterea straturilor epixiale pe așchii de napolitană. Rezistența sa la oxidare la temperaturi înalte și puritatea ridicată îl fac potrivit pentru utilizarea în industria semiconductoarelor. Profilul său termic uniform, modelul de flux de gaz laminar și prevenirea contaminării îl fac alegerea ideală pentru creșterea stratului epixial de înaltă calitate.
Citeşte mai multTrimite o anchetă