Produse

View as  
 
Depunere epitaxială CVD în reactor de butoi

Depunere epitaxială CVD în reactor de butoi

Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor este un produs extrem de durabil și de încredere pentru creșterea straturilor epixiale pe așchii de napolitană. Rezistența sa la oxidare la temperaturi ridicate și puritatea ridicată îl fac potrivit pentru utilizarea în industria semiconductoarelor. Profilul său termic uniform, modelul de flux de gaz laminar și prevenirea contaminării îl fac alegerea ideală pentru creșterea stratului epixial de înaltă calitate.

Citeşte mai multTrimite o anchetă
Depunere epitaxială de siliciu în reactor de butoi

Depunere epitaxială de siliciu în reactor de butoi

Dacă aveți nevoie de un susceptor de grafit de înaltă performanță pentru utilizare în aplicațiile de fabricare a semiconductoarelor, reactorul Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel este alegerea ideală. Acoperirea sa de SiC de înaltă puritate și conductivitatea termică excepțională oferă protecție superioară și proprietăți de distribuție a căldurii, făcându-l alegerea ideală pentru performanțe fiabile și consistente chiar și în cele mai dificile medii.

Citeşte mai multTrimite o anchetă
Sistem Epi de butoi încălzit inductiv

Sistem Epi de butoi încălzit inductiv

Dacă aveți nevoie de un susceptor din grafit cu proprietăți excepționale de conductivitate termică și de distribuție a căldurii, nu căutați mai departe decât Sistemul Epi de butoi încălzit inductiv Semicorex. Acoperirea sa de SiC de înaltă puritate oferă protecție superioară în medii cu temperatură înaltă și corozive, făcându-l alegerea ideală pentru utilizarea în aplicațiile de fabricare a semiconductoarelor.

Citeşte mai multTrimite o anchetă
Structura cilindru pentru reactor epitaxial semiconductor

Structura cilindru pentru reactor epitaxial semiconductor

Cu proprietățile sale excepționale de conductivitate termică și de distribuție a căldurii, Semicorex Barrel Structure for Semiconductor Epitaxial Reactor este alegerea perfectă pentru utilizarea în procesele LPE și alte aplicații de fabricare a semiconductorilor. Acoperirea sa de SiC de înaltă puritate oferă o protecție superioară în medii cu temperaturi ridicate și corozive.

Citeşte mai multTrimite o anchetă
Susceptor de butoi de grafit acoperit cu SiC

Susceptor de butoi de grafit acoperit cu SiC

Dacă sunteți în căutarea unui susceptor de grafit de înaltă performanță pentru utilizare în aplicațiile de fabricare a semiconductoarelor, susceptorul cu baril de grafit acoperit Semicorex SiC este alegerea ideală. Conductivitatea termică excepțională și proprietățile sale de distribuție a căldurii îl fac alegerea ideală pentru o performanță fiabilă și consistentă în medii cu temperaturi ridicate și corozive.

Citeşte mai multTrimite o anchetă
Susceptor de creștere a cristalelor acoperit cu SiC

Susceptor de creștere a cristalelor acoperit cu SiC

Cu punctul său de topire ridicat, rezistența la oxidare și rezistența la coroziune, susceptorul de creștere a cristalului acoperit cu SiC Semicorex este alegerea ideală pentru utilizarea în aplicațiile de creștere a cristalului unic. Învelișul său cu carbură de siliciu oferă proprietăți excelente de planeitate și de distribuție a căldurii, făcându-l o alegere ideală pentru medii cu temperaturi ridicate.

Citeşte mai multTrimite o anchetă
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept