- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Produse
- View as
Tavă de gravare cu plasmă ICP
Tava de gravare cu plasmă ICP de la Semicorex este concepută special pentru procesele de manipulare a plachetelor la temperatură înaltă, cum ar fi epitaxie și MOCVD. Cu o rezistență stabilă la oxidare la temperatură înaltă de până la 1600°C, suporturile noastre oferă profile termice uniforme, modele de flux laminar de gaz și previn contaminarea sau difuzia impurităților.
Citeşte mai multTrimite o anchetă
Sistem de gravare cu plasmă ICP
Purtătorul acoperit cu SiC de la Semicorex pentru sistemul de gravare cu plasmă ICP este o soluție fiabilă și rentabilă pentru procesele de manipulare a plachetelor la temperatură înaltă, cum ar fi epitaxie și MOCVD. Purtătorii noștri au o acoperire fină de cristal SiC care oferă rezistență superioară la căldură, uniformitate termică și rezistență chimică durabilă.
Citeşte mai multTrimite o anchetă
Plasmă cuplată inductiv (ICP)
Susceptorul Semicorex acoperit cu carbură de siliciu pentru plasmă cuplată inductiv (ICP) este proiectat special pentru procesele de manipulare a plachetelor la temperatură înaltă, cum ar fi epitaxie și MOCVD. Cu o rezistență stabilă la oxidare la temperatură înaltă de până la 1600°C, purtătorii noștri asigură profile termice uniforme, modele de flux laminar de gaz și previn contaminarea sau difuzia impurităților.
Citeşte mai multTrimite o anchetă
Suport pentru napolitană de gravat ICP
Suportul pentru napolitană de gravare ICP de la Semicorex este soluția perfectă pentru procesele de manipulare a plachetelor la temperatură înaltă, cum ar fi epitaxie și MOCVD. Cu o rezistență stabilă la oxidare la temperatură înaltă de până la 1600°C, purtătorii noștri asigură profile termice uniforme, modele de flux laminar de gaz și previn contaminarea sau difuzia impurităților.
Citeşte mai multTrimite o anchetă
Placă suport pentru gravare ICP
Placa de transport pentru gravare ICP de la Semicorex este soluția perfectă pentru procesele solicitante de manipulare a plachetelor și de depunere a filmelor subțiri. Produsul nostru oferă rezistență superioară la căldură și coroziune, chiar uniformitate termică și modele de flux laminar de gaz. Cu o suprafață curată și netedă, suportul nostru este perfect pentru manipularea napolitanelor curate.
Citeşte mai multTrimite o anchetă
Suport pentru napolitană pentru procesul de gravare ICP
Suportul pentru napolitane de la Semicorex pentru procesul de gravare ICP este alegerea perfectă pentru procesele solicitante de manipulare a plachetelor și de depunere a filmelor subțiri. Produsul nostru se mândrește cu rezistență superioară la căldură și coroziune, uniformitate termică chiar și modele optime de flux laminar de gaz pentru rezultate consistente și fiabile.
Citeşte mai multTrimite o anchetă
