Țintă plană de siliciu monocristalin

Ținta plană de siliciu monocristalin de la Semicorex este o componentă crucială în industria de producție de semiconductori de ultimă oră. Fabricat din material de siliciu monocristalin de calitate superioară, are o structură cristalină foarte ordonată și o puritate remarcabilă. Aceste proprietăți îl fac o soluție ideală pentru fabricarea de filme semiconductoare și filme optice fiabile și de înaltă performanță.

Trimite o anchetă

Descriere produs

Siliciu monocristalinȚinta plană este de obicei prelucrată de echipamente de tăiere de înaltă precizie din lingouri de siliciu monocristalin fabricate prin metoda Czochralski. Pentru a satisface diversificarea nevoilor clienților, ținta plană de siliciu monocristalin poate fi tăiată în formele dorite pentru stimații dvs. clienți. Tehnologia precisă de prelucrare a șlefuirii și lustruirii asigură planeitatea superbă a suprafeței materialului țintă, oferind o garanție puternică pentru depunerea peliculelor subțiri.

Ținta plană de siliciu monocristalin este plasată în interior într-o cameră de reacție în vid împreună cu substratul care urmează să fie acoperit în timpul procesului de depunere a filmului. Când ținta plană de siliciu monocristalin este bombardată de ioni de înaltă energie, atomii de siliciu de pe suprafața sa sunt eliminați prin pulverizare. Acești atomi de siliciu pulverizați apoi migrează și se depun pe suprafața substratului, formând în cele din urmă o peliculă subțire de siliciu.

Ținta plană de siliciu monocristalin servește ca sursă materială pentru depunerea de film subțire. Toți atomii de siliciu depuși pe suprafața plachetei provin din ținte plane de siliciu monocristalin. Prin urmare, calitatea țintei plane de siliciu monocristalin determină în mod direct puritatea, uniformitatea și alte proprietăți cheie ale filmului subțire depus.

Caracteristica de puritate superbă conferă țintei plane de siliciu monocristalin capacitatea de a împiedica impuritățile să contamineze pelicula subțire. Acest lucru îmbunătățește semnificativ performanța electrică a dispozitivelor semiconductoare. Îmbunătățirea uniformității și aderenței filmelor subțiri beneficiază de structura sa cristalină foarte ordonată, care permite particulelor de pulverizare să migreze și să se depună pe suprafața plachetei mai regulat. Designul structurii plane este potrivit pentru cerințele de pulverizare pe suprafețe mari și de mare viteză și este aplicabil scenariilor de producție la scară largă, cum ar fi plachetele semiconductoare și panourile de afișare.