Suport pentru gravare pentru gravare PSS

Suportul de transport pentru gravare PSS de la Semicorex este proiectat pentru cele mai solicitante aplicații de echipamente de epitaxie. Suportul nostru din grafit ultra-pur poate rezista în medii dure, temperaturi ridicate și curățări chimice dure. Purtătorul acoperit cu SiC are proprietăți excelente de distribuție a căldurii, conductivitate termică ridicată și este rentabil. Produsele noastre sunt utilizate pe scară largă pe multe piețe europene și americane și așteptăm cu nerăbdare să devenim partenerul dumneavoastră pe termen lung în China.

Trimite o anchetă

Descriere produs

La Semicorex, am proiectat suportul de transport pentru gravarea PSS, special pentru mediile dure necesare pentru procesele de creștere epitaxială și de manipulare a plachetelor. Purtătorul nostru de grafit ultra-pur este ideal pentru fazele de depunere a filmului subțire, cum ar fi MOCVD, susceptori de epitaxie, platforme de clătite sau satelit și procesare de manipulare a plachetelor, cum ar fi gravarea. Purtătorul acoperit cu SiC are rezistență ridicată la căldură și coroziune, proprietăți excelente de distribuție a căldurii și o conductivitate termică ridicată. Produsele noastre sunt rentabile și oferă un avantaj de preț bun.

Contactați-ne astăzi pentru a afla mai multe despre suportul nostru de transport pentru gravare PSS.

Parametrii suportului suport de gravare pentru gravarea PSS

Specificații principale ale acoperirii CVD-SIC
Proprietăți SiC-CVD
Structura de cristal	faza FCC β
Densitate	g/cm³	3.21
Duritate	Duritatea Vickers	2500
Dimensiunea boabelor	μm	2~10
Puritatea chimică	%	99.99995
Capacitate termică	J kg-1 K-1	640
Temperatura de sublimare	℃	2700
Forța felexurală	MPa (RT în 4 puncte)	415
Modulul tinerilor	Gpa (îndoire 4 pt, 1300 ℃)	430
Expansiune termică (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductivitate termică	(W/mK)	300