Cabl de duș CVD-SiC

Cablul de duș Semicorex CVD-SiC oferă durabilitate, management termic excelent și rezistență la degradarea chimică, făcându-l o alegere potrivită pentru procesele CVD solicitante din industria semiconductoarelor. Semicorex se angajează să ofere produse de calitate la prețuri competitive, așteptăm cu nerăbdare să devenim partenerul dumneavoastră pe termen lung în China.

Trimite o anchetă

Descriere produs

În contextul unui duș CVD, un duș CVD-SiC este de obicei proiectat pentru a distribui uniform gazele precursoare pe suprafața substratului în timpul procesului CVD. Capul de duș este de obicei poziționat deasupra substratului, iar gazele precursoare curg prin găuri mici sau duze de pe suprafața acestuia.

Materialul CVD-SiC folosit la dușul oferă mai multe avantaje. Conductivitatea sa termică ridicată ajută la disiparea căldurii generate în timpul procesului CVD, asigurând o distribuție uniformă a temperaturii pe substrat. În plus, stabilitatea chimică a SiC îi permite să reziste la gaze corozive și medii dure întâlnite frecvent în procesele CVD.

Designul unui cap de duș CVD-SiC poate varia în funcție de sistemul CVD specific și de cerințele procesului. Cu toate acestea, constă de obicei dintr-o placă sau o componentă în formă de disc cu o serie de găuri sau fante perforate cu precizie. Modelul și geometria găurilor sunt proiectate cu atenție pentru a asigura o distribuție uniformă a gazului și debite pe suprafața substratului.