Cap de duș cu acoperire cu grafit CVD SiC

Într-un aparat cu plasmă pentru gravarea și depunerea chimică a vaporilor (CVD) a materialelor pe plachete, gazele de proces sunt furnizate într-o cameră de proces printr-un cap de duș de grafit acoperit cu CVD SiC. Semicorex se angajează să ofere produse de calitate la prețuri competitive, așteptăm cu nerăbdare să devenim partenerul dumneavoastră pe termen lung în China.

Trimite o anchetă

Descriere produs

Capul de duș Semicorex CVD SiC (Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide) acoperit cu grafit este o componentă specializată utilizată în diferite procese industriale, cum ar fi depunerea chimică în vapori (CVD) și depunerea chimică în vapori îmbunătățită cu plasmă (PECVD). Joacă un rol crucial în furnizarea gazelor precursoare sau a speciilor reactive pe suprafața unui substrat în timpul acestor procese de depunere.

Capul de duș cu grafit acoperit cu CVD SiC este realizat din grafit de înaltă puritate și acoperit cu un strat subțire de SiC prin metoda CVD. Capul de duș cu grafit acoperit cu CVD SiC combină proprietățile benefice ale grafitului și SiC, făcându-l o componentă esențială în diferite procese de depunere în care este necesară o distribuție precisă și uniformă a gazului, împreună cu rezistența la temperaturi ridicate și medii chimice.

Caracteristici:

Rezistenta chimica

Stabilitate termică

Suprafață netedă și uniformă

Contaminare redusă