Grafit ultra-subțire cu porozitate ridicată

Aderență superioară a particulelor la suprafață și caracteristici excelente anti-praf: Grafitul ultra-subțire Semicorex cu porozitate ridicată prezintă o aderență excepțională a particulelor la suprafață, asigurând o generare minimă de praf și menținând un mediu de lucru curat, ceea ce este crucial pentru aplicații sensibile, cum ar fi fabricarea semiconductorilor.

Toleranță la temperatură înaltă: Grafitul ultra-subțire cu porozitate ridicată poate rezista la temperaturi extreme de până la 2500°C, făcându-l potrivit pentru procese de temperatură înaltă și medii în care materialele convenționale ar eșua.

Porozitate ridicată de până la 65%: porozitatea ridicată a grafitului poros permite un flux eficient de gaz și fluid, permițând un transfer de masă mai bun și o disipare a căldurii în diferite aplicații.

Grafit poros ultra-subțire cu prelucrabilitate excelentă: Grafitul ultra-subțire cu porozitate ridicată poate fi fabricat în foi ultra-subțiri de până la 1,5 mm, menținând în același timp porozitatea ridicată, oferind flexibilitate în proiectare și aplicare.

Prelucrare pentru forme cilindrice cu pereți ultra-subțiri: Grafitul ultra-subțire cu porozitate ridicată poate fi prelucrat în forme cilindrice cu pereți ultra-subțiri cu grosimi de perete ≤1 mm, oferind versatilitate în designul și funcționalitatea componentelor.

Proprietăți izolante excelente și consistență a lotului: Grafitul ultra-subțire cu porozitate ridicată demonstrează caracteristici de izolare remarcabile și performanță constantă de la lot la lot, asigurând rezultate fiabile și reproductibile în aplicații critice.

Material grafit poros ultra-pur: grafitul ultra-subțire cu porozitate ridicată este disponibil în forme ultra-pure, atingând niveluri ridicate de puritate, care sunt esențiale pentru aplicații solicitante, cum ar fi fabricarea semiconductorilor.

Rezistență ridicată: În ciuda naturii sale poroase, grafitul ultra-subțire cu porozitate ridicată prezintă o rezistență impresionantă, făcându-l potrivit pentru componente structurale și aplicații portante.

Aplicații în fabricarea semiconductorilor:

Grafitul ultra-subțire cu porozitate ridicată este utilizat în principal în industria semiconductoarelor, în special în noul proces de transfer de masă. Acest proces folosește un nou câmp termic pentru transferul de masă într-o singură trecere, îmbunătățind semnificativ eficiența transferului și menținând o rată constantă, reducând astfel impactul recristalizării (evitând transferul de masă cu trecere dublă) și minimizând în mod eficient micro-conductele sau alte defecte ale cristalului. În plus, grafitul poros ajută la echilibrarea componentelor fazei gazoase, la izolarea urmelor de impurități, la reglarea temperaturilor locale și la reducerea încapsulării fizice a particulelor. Prin satisfacerea cerințelor de utilizare a cristalului, grafitul poros permite o creștere substanțială a grosimii cristalului, făcându-l o tehnologie cheie pentru abordarea provocării de a crește cristale mai groase.