Produse

View as  
 
Cap de duș cu carbură de siliciu CVD

Cap de duș cu carbură de siliciu CVD

Cablul de duș cu carbură de siliciu Semicorex CVD este o componentă esențială și foarte specializată în procesul de gravare a semiconductorilor, în special în fabricarea circuitelor integrate. Prin angajamentul nostru neclintit de a oferi produse de cea mai bună calitate la prețuri competitive, suntem pregătiți să devenim partenerul dumneavoastră pe termen lung în China.*

Citeşte mai multTrimite o anchetă
Inel de acoperire SiC

Inel de acoperire SiC

Semicorex SiC Coating Ring este o componentă critică în mediul solicitant al proceselor de epitaxie semiconductoare. Prin angajamentul nostru ferm de a oferi produse de cea mai bună calitate la prețuri competitive, suntem pregătiți să devenim partenerul dumneavoastră pe termen lung în China.*

Citeşte mai multTrimite o anchetă
Receptor de disc SiC

Receptor de disc SiC

Semicorex introduce susceptorul său de disc SiC, conceput pentru a crește performanța echipamentelor de epitaxie, depunere de vapori chimici metalo-organici (MOCVD) și procesare termică rapidă (RTP). Susceptorul de disc SiC, proiectat meticulos, oferă proprietăți care garantează performanțe superioare, durabilitate și eficiență în medii cu temperaturi ridicate și vid.**

Citeşte mai multTrimite o anchetă
Câmpul termic de grafit

Câmpul termic de grafit

Semicorex Graphite Thermal Field combină știința materialelor de ultimă oră cu o înțelegere profundă a proceselor de creștere a cristalelor, oferă o soluție inovatoare care dă putere industriei semiconductoarelor să atingă noi niveluri de performanță, eficiență și rentabilitate.**

Citeşte mai multTrimite o anchetă
LPE SiC-Epi Halfmoon

LPE SiC-Epi Halfmoon

Semicorex LPE SiC-Epi Halfmoon este un activ indispensabil în lumea epitaxiei, oferind o soluție robustă la provocările generate de temperaturile ridicate, gazele reactive și cerințele stricte de puritate.**

Citeşte mai multTrimite o anchetă
Capac de acoperire CVD TaC

Capac de acoperire CVD TaC

Semicorex CVD TaC Coating Cover a devenit o tehnologie de permitere critică în mediile solicitante din reactoarele de epitaxie, caracterizate prin temperaturi ridicate, gaze reactive și cerințe stricte de puritate, necesită materiale robuste pentru a asigura creșterea constantă a cristalelor și pentru a preveni reacțiile nedorite.**

Citeşte mai multTrimite o anchetă
<...678910...72>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept