Ce este un sistem MOCVD?

MOCVD, cunoscut sub denumirea de depunere în vapori de substanțe chimice metalo-organice (MOCVD), este o tehnică de creștere a filmelor subțiri de semiconductor pe un substrat. Cu MOCVD, multe nanostraturi pot fi depuse cu mare precizie, fiecare cu o grosime controlată, pentru a forma materiale cu proprietăți optice și electrice specifice.

Un sistem MOCVD este un tip de sistem de depunere chimică în vapori (CVD) care utilizează precursori metalici organici pentru a depune pelicule subțiri de material pe un substrat. Sistemul constă dintr-un vas reactor, un sistem de livrare a gazului, un suport pentru substrat și un sistem de control al temperaturii. Precursorii metalici organici sunt introduși în vasul reactorului împreună cu un gaz purtător, iar temperatura este controlată cu atenție pentru a asigura creșterea unui film subțire de înaltă calitate.

Utilizarea MOCVD are mai multe avantaje față de alte tehnici de depunere. Un avantaj este că permite depunerea de materiale complexe cu control precis asupra grosimii și compoziției filmelor subțiri. Acest lucru este deosebit de important pentru producția de dispozitive semiconductoare de înaltă performanță, unde proprietățile materialelor filmelor subțiri pot avea un impact semnificativ asupra performanței dispozitivului.

Un alt avantaj al MOCVD este că poate fi folosit pentru a depune filme subțiri pe o varietate de substraturi, inclusiv siliciu, safir și arseniura de galiu. Această flexibilitate îl face un proces esențial în fabricarea unei game largi de dispozitive semiconductoare, de la cipuri de computer la LED-uri.

Sistemele MOCVD sunt utilizate pe scară largă în industria semiconductoarelor și au jucat un rol esențial în dezvoltarea multor tehnologii avansate. De exemplu, MOCVD a fost folosit pentru a produce LED-uri de înaltă eficiență pentru aplicații de iluminat și afișare, precum și celule solare de înaltă performanță pentru aplicații fotovoltaice.