Componente din silicon pentru gravare uscată

Echipamentul de gravare uscată nu utilizează substanțe chimice umede pentru gravare. În primul rând, introduce un agent de gravare gazos în cameră printr-un electrod superior cu găuri mici de trecere. Câmpul electric generat de electrozii superiori și inferiori ionizează gravatorul gazos, care reacţionează apoi cu materialul care urmează să fie gravat pe plachetă, producând substanţe volatile. Aceste substanțe volatile sunt apoi extrase din camera de reacție, completând procesul de gravare.

Reacția de gravare uscată are loc într-o cameră de proces, care constă în principal dincomponente de siliciu, inclusiv un inel de evacuare din silicon, un inel exterior din silicon, un duș din silicon, un inel de focalizare din silicon și un inel de protecție din silicon.

Într-o cameră de gravare uscată, o placă de siliciu este plasată de obicei într-un inel de focalizare de siliciu. Această combinație servește ca electrod pozitiv, poziționat sub camera de gravare. Un disc de siliciu cu găuri mici, dens, situate deasupra camerei, servește drept electrod negativ. Un inel exterior din silicon susține electrodul superior și alte componente aferente. Electrozii superiori și inferiori sunt în contact direct cu plasma. Pe măsură ce plasma gravează placheta de siliciu, aceasta uzează și electrozii de siliciu superior și inferior. Electrodul inferior (inelul de focalizare) se subțiază treptat în timpul procesului de gravare, necesitând înlocuire atunci când grosimea atinge un anumit nivel. În plus, găurile distribuite uniform din electrodul superior (capul de duș) sunt corodate de plasmă, provocând variații în dimensiunea găurii. Odată ce aceste variații ating un anumit nivel, ele trebuie înlocuite. De obicei, este necesar un ciclu de înlocuire la fiecare 2-4 săptămâni de utilizare.

Această secțiune explică în mod specific rolul inelului de focalizare din siliciu (electrodul inferior). Acesta controlează grosimea tecii de plasmă, optimizând astfel uniformitatea bombardamentului ionic. Învelișul de plasmă, regiunea neneutră dintre plasmă și peretele vasului, este o regiune crucială și unică în plasmă. Plasma este formată din număr egal de ioni pozitivi și electroni. Deoarece electronii călătoresc mai repede decât ionii, ei ajung mai întâi pe peretele vasului. Plasma este încărcată pozitiv în raport cu peretele vasului. Câmpul electric al învelișului accelerează ionii din plasmă (atracție pozitiv-negativ), conferind ionilor energie mare. Acest flux de ioni de înaltă energie permite acoperirea, gravarea și pulverizarea.

Impedanța plachetei afectează grosimea tecii de plasmă (cu cât impedanța este mai mică, cu atât teaca este mai groasă). Impedanța din centrul plachetei este diferită de cea de la margine, rezultând o grosime neuniformă a tecii de plasmă la margine. Această înveliș de plasmă neuniform accelerează ionii, dar și deviază punctul de bombardament ionic, reducând acuratețea gravării. Prin urmare, este necesar un inel de focalizare pentru a controla grosimea tecii de plasmă, optimizând astfel direcția de bombardament ionic și îmbunătățind acuratețea gravării.

Luând ca exemplu inelul de focalizare din jurul plachetei, în timp ce cuarțul, cu puritatea sa ridicată, este optim pentru a obține o contaminare scăzută cu metale, se corodează rapid în plasma cu gaz fluor, rezultând o durată de viață scurtă. Acest lucru nu numai că mărește costurile, dar necesită și timpi de nefuncționare din cauza înlocuirii, reducând timpul de funcționare al echipamentului. Ceramica, deși are o durată de viață suficient de lungă, este expusă unui bombardament ionic de mare energie. Aluminiul pulverizat reacţionează cu fluorul din plasmă pentru a forma fluoruri nevolatile (cum ar fi fluorura de aluminiu). Dacă acestea nu pot fi îndepărtate și depuse pe suprafața dispozitivului sau fotorezist la marginea plachetei, ele împiedică îndepărtarea ulterioară a fluorurilor generate și a fotorezistului, influențând randamentul produsului. Materialele mai potrivite sunt siliciul monocristal sau carbura de siliciu. Cu toate acestea, siliciul monocristal este ieftin, dar are o durată de viață scurtă, în timp ce carbura de siliciu este mai scumpă, dar are o durată de viață puțin mai lungă. Compartimentul dintre aceste două opțiuni depinde de circumstanțele specifice. De exemplu, dacă utilizarea echipamentului este mare și timpul de funcționare este critic, ar trebui utilizată carbură de siliciu. Dacă costurile de uzură ale componentei nu sunt prea mari, trebuie utilizat siliciu monocristal.

Semicorex oferă calitate înaltăPiese din silicon. Dacă aveți întrebări sau aveți nevoie de detalii suplimentare, vă rugăm să nu ezitați să ne contactați.

produse cu membrane ceramice

E-mail: sales@semicorex.com