CVD Holder Wafer

Suportul pentru placa de acoperire CVD Semicorex este o parte performantă, concepută pentru a sprijini și deține napolitane în timpul creșterii precise a materialelor semiconductoare folosind procese de epitaxie. Este acoperit cu carbură de tantalum (TAC), care contribuie la durabilitatea și fiabilitatea remarcabilă în condiții solicitante.

Caracteristici cheie:

Acoperire cu carbură de tantalum: Acoperirea suportului de wafer cu carbură de tantal (TAC) se datorează durității, rezistenței la uzură și stabilității termice. Această acoperire contribuie în mod semnificativ la capacitatea produsului de a rezista mediilor chimice dure, precum și la temperaturi ridicate și găsește aplicare în a purta exact ceea ce este necesar de la fabricarea semiconductorilor.

Tehnologie de acoperire supercritică: Acoperirea este aplicată folosind o metodă de depunere a fluidului supercritic, care garantează stratul uniform și dens al TAC. Tehnologia avansată de acoperire oferă o mai bună adeziune și reducere a defectelor, oferind o acoperire de înaltă calitate, de lungă durată, cu longevitate asigurată.

Grosimea acoperirii: Acoperirea TAC poate atinge o grosime de până la 120 de microni, oferind un echilibru ideal de durabilitate și precizie. Această grosime asigură că suportul de wafer poate rezista la temperaturi, presiuni și medii reactive ridicate, fără a compromite integritatea structurală.

Stabilitate termică excelentă: Acoperirea carburii de tantalum oferă o stabilitate termică remarcabilă, permițând suportului de placă să funcționeze în mod fiabil în condițiile de temperatură ridicată tipică proceselor de epitaxie semiconductoare. Această caracteristică este crucială pentru menținerea rezultatelor consistente și pentru a asigura calitatea materialului semiconductor.

Coroziunea și rezistența la uzură: Acoperirea TAC oferă o rezistență excelentă la coroziune și uzură, asigurându -se că suportul de placă poate suporta expunerea la gaze reactive și substanțe chimice care se găsesc în mod obișnuit în procesele semiconductoare. Această durabilitate prelungește durata de viață a produsului și reduce nevoia de înlocuire frecventă, îmbunătățind eficiența operațională.

Aplicații:

Suportul pentru placa de acoperire CVD este conceput special pentru procesele de epitaxie semiconductoare, unde sunt esențiale un control precis și integritatea materială. Este utilizat în tehnici precum epitaxia fasciculului molecular (MBE), depunerea de vapori chimici (CVD) și depunerea de vapori chimici metalici-organici (MOCVD), unde suportul wafer trebuie să reziste la temperaturi extreme și medii reactive.

În epitaxia semiconductoare, precizia este crucială pentru creșterea filmelor subțiri de înaltă calitate pe un substrat. Deținătorul de nave de acoperire a CVD se asigură că napolitane sunt susținute și menținute în siguranță în condiții optime, contribuind la producerea constantă de materiale semiconductoare de înaltă calitate.

Suportul pentru placa de acoperire a CVD Semicorex este conceput folosind materiale de ultimă oră și tehnologii avansate de acoperire pentru a răspunde cerințelor mari ale epitaxiei semiconductoare. Utilizarea depunerii de lichid supercritic pentru o acoperire TAC groasă și uniformă asigură durabilitatea, precizia și longevitatea de neegalat. Cu rezistența sa termică și chimică superioară, suportul nostru de wafer este conceput pentru a oferi performanțe fiabile în cele mai provocatoare medii, contribuind la îmbunătățirea eficienței proceselor dvs. de fabricație a semiconductorilor.