Epitaxia de siliciu este un proces primar de fabricare a circuitelor integrate. Permite fabricarea dispozitivelor IC pe straturi epitaxiale ușor dopate cu straturi îngropate puternic dopate, formând în același timp și joncțiuni PN crescute, rezolvând astfel problema de izolare a IC. Placile epitaxia......
Citeşte mai multGravarea uscată este o tehnologie principală în procesele de fabricație a sistemelor micro-electro-mecanice. Performanța procesului de gravare uscată exercită o influență directă asupra preciziei structurale și a performanței operaționale a dispozitivelor semiconductoare. Pentru a controla cu preciz......
Citeşte mai multGravarea uscată este de obicei un proces care combină acțiuni fizice și chimice, bombardarea ionică fiind o tehnică de gravare fizică crucială. În timpul gravării, unghiul incident și distribuția energiei ionilor pot fi neuniforme.
Citeşte mai multGlisiera aerostatică cu carbură de siliciu este un sistem avansat de ghidare care combină proprietățile materialelor carburii de siliciu și tehnologia aerostatică. Serviciu ca soluție optimă pentru sisteme de mișcare de înaltă precizie, de înaltă fiabilitate și pe termen lung, glisiera aerostatică d......
Citeşte mai multMetoda principală pentru prepararea monocristalelor de carbură de siliciu este metoda transportului fizic al vaporilor (PVT). Această metodă constă în principal dintr-o cavitate tub de cuarț, un element de încălzire (bobină de inducție sau încălzitor de grafit), material izolator din pâslă de carbon......
Citeşte mai multSOI, prescurtare pentru Silicon-On-Insulator, este un proces de fabricare a semiconductorilor bazat pe materiale speciale de substrat. De la industrializarea sa în anii 1980, această tehnologie a devenit o ramură importantă a proceselor avansate de fabricație a semiconductorilor. Distins prin struct......
Citeşte mai mult