Epitaxie SiC

Există două tipuri de epitaxie: omogenă și eterogenă. Pentru a produce dispozitive SiC cu rezistență specifică și alți parametri pentru diferite aplicații, substratul trebuie să îndeplinească condițiile de epitaxie înainte de a începe producția. Calitatea epitaxiei afectează performanța dispozitivului.

În prezent, există două metode epitaxiale principale. Prima este epitaxia omogenă, în care filmul de SiC este crescut pe un substrat conductiv de SiC. Acesta este utilizat în principal pentru MOSFET, IGBT și alte câmpuri de semiconductori de putere de înaltă tensiune. A doua este creșterea heteroepitaxială, în care filmul de GaN este crescut pe un substrat de SiC semiizolant. Acesta este utilizat pentru GaN HEMT și pentru alți semiconductori de putere de joasă și medie tensiune, precum și pentru dispozitive de radiofrecvență și optoelectronice.

Procesele epitaxiale includ sublimarea sau transportul fizic al vaporilor (PVT), epitaxia cu fascicul molecular (MBE), epitaxia în fază lichidă (LPE) și epitaxia în fază chimică de vapori (CVD). Metoda generală de producție epitaxială omogenă de SiC folosește H2 ca gaz purtător, cu silan (SiH4) și propan (C3H8) ca sursă de Si și C. Moleculele de SiC sunt produse printr-o reacție chimică în camera de precipitare și depuse pe substratul de SiC. .

Parametrii cheie ai epitaxiei SiC includ grosimea și uniformitatea concentrației de dopaj. Pe măsură ce tensiunea scenariului de aplicare a dispozitivului din aval crește, grosimea stratului epitaxial crește treptat și concentrația de dopaj scade.

Un factor limitativ în construcția capacității SiC este echipamentul epitaxial. Echipamentul de creștere epitaxială este în prezent monopolizat de LPE din Italia, AIXTRON din Germania și Nuflare și TEL din Japonia. Ciclul de livrare a echipamentului epitaxial de înaltă temperatură SiC a fost prelungit la aproximativ 1,5-2 ani.

Semicorex furnizează piese SiC pentru echipamente semiconductoare, cum ar fi LPE, Aixtron și etc. Dacă aveți întrebări sau aveți nevoie de detalii suplimentare, vă rugăm să nu ezitați să ne contactați.

Numărul de telefon de contact +86-13567891907

E-mail: sales@semicorex.com