MOCVD este echipamentul cheie

Echipamentul MOCVD este echipamentul cheie în procesul de producție al industriei semiconductoarelor, dar și o mare parte din investițiile în echipamente în lanțul industriei semiconductoarelor (trei procese și echipamente de bază: litografie, gravare, depunere de peliculă subțire), investiții în linia de producție LED, MOCVD valoarea investiției poate reprezenta până la 50%. În echipamentele CVD, substratul nu poate fi așezat direct pe metal sau pur și simplu plasat deasupra unei baze pentru depunerea epitaxială, deoarece implică influența diverșilor factori precum direcția fluxului de gaz (orizontal, vertical), temperatura, presiunea, fixarea , eliminând contaminanți. Prin urmare, se folosește o bază și substratul este plasat pe un disc și apoi se realizează depunerea epitaxială deasupra substratului folosind tehnologia CVD. Această bază este grafitul acoperit cu SiCsusceptor(care poate fi numit și apurtător), iar structura sa este prezentată în figura de mai jos.